隨著信息技術(shù)的快速發(fā)展，與之相配套的電子化學(xué)品正成為我國(guó)化工行業(yè)發(fā)展最快和最具活力的領(lǐng)域。從新成立的化工新材料委員會(huì)了解到，雖然我國(guó)電子化學(xué)品中許多關(guān)鍵產(chǎn)品，如IC（集成電路）芯片、光纖原料和高檔元器件等仍然短缺，但我國(guó)在IC配套材料許多領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究已居世界前列。
電子化學(xué)品的種類(lèi)繁多，為IC產(chǎn)業(yè)配套的主要是光刻膠、高純?cè)噭㈦娮犹胤N氣體、封裝材料等。光刻膠是光刻過(guò)程中的惟一介質(zhì)，光刻技術(shù)是IC產(chǎn)業(yè)發(fā)展的推動(dòng)力。隨著目前集成電路線寬的不斷縮小，與之對(duì)應(yīng)的各類(lèi)光刻膠的研制開(kāi)發(fā)也在不斷進(jìn)行。我國(guó)目前除已具備普通436nm光刻膠和紫外負(fù)型光刻膠約100噸的產(chǎn)能外，無(wú)錫市化工研究院已能提供少量電子束光刻膠和其他一些特種光刻膠。“十五”期間，國(guó)內(nèi)科研單位在193nm光刻膠和電子束化學(xué)增幅光刻膠的研究上取得進(jìn)展，兩種樣品的分辨率已分別達(dá)到0．1μm和0．15μm。
高純?cè)噭┦前雽?dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵性化工材料。北京試劑所通過(guò)多年的連續(xù)攻關(guān)，已相繼研制成功BV－I、BV－II和BV－III級(jí)超凈高純?cè)噭�，其中BV－III級(jí)超凈高純?cè)噭┻_(dá)到國(guó)際SEMI－C7標(biāo)準(zhǔn)，適用于0．8～1．2μm工藝技術(shù)，并已形成500噸／年的中試規(guī)模。
環(huán)氧塑封料是目前國(guó)內(nèi)外封裝材料的主流，我國(guó)環(huán)氧塑封料開(kāi)發(fā)起步較晚，產(chǎn)能約1．3萬(wàn)噸／年，實(shí)驗(yàn)室研究水平達(dá)到0．5～0．35μm。近年來(lái)，聚酰亞胺模塑料作為當(dāng)今微電子技術(shù)中的關(guān)鍵材料之一日益受到人們青睞，中科院化學(xué)所通過(guò)對(duì)聚酰亞胺樹(shù)脂的不斷研究，成功開(kāi)發(fā)出光敏型BTPA－1000和標(biāo)準(zhǔn)型BTDA－1000聚酰亞胺專(zhuān)用樹(shù)脂。
但專(zhuān)家同時(shí)提醒，雖然我國(guó)在IC配套材料一些基礎(chǔ)領(lǐng)域取得了領(lǐng)先的研究成果，但由于材料的加工工藝和裝備問(wèn)題尚未得到有效解決，許多成果還困在實(shí)驗(yàn)室，真正產(chǎn)業(yè)化還需時(shí)日。
