新產(chǎn)業(yè)
導(dǎo)讀：《福布斯》網(wǎng)站日前刊登了分析文章指出，對(duì)于芯片業(yè)制造業(yè)的未來(lái)發(fā)展，不少業(yè)界人士曾表示，在未來(lái)的10年中，整個(gè)芯片業(yè)都將依賴于納米技術(shù)。那么納米技術(shù)是否像眾多專家所說(shuō)的那樣，將在芯片業(yè)的未來(lái)制造過(guò)程中扮演起至關(guān)重要的角色呢？
多年來(lái)，芯片業(yè)一直采用著光刻的方法來(lái)進(jìn)行芯片制造。如英特爾及AMD都是如此。所謂光刻法，就是利用光源的引導(dǎo)對(duì)硅片進(jìn)行蝕刻加工的過(guò)程。但為了使摩爾定律(即每隔18個(gè)月芯片的處理能力會(huì)提高一倍；換句話說(shuō)，每隔18個(gè)月同等面積芯片上的晶體管數(shù)目會(huì)增加一倍)繼續(xù)保持它的有效性，傳統(tǒng)的光刻法在未來(lái)芯片制造過(guò)程中就會(huì)面臨著諸多難題。
多年來(lái)，芯片業(yè)一直采用著光刻的方法來(lái)進(jìn)行芯片制造。如英特爾及AMD都是如此。所謂光刻法，就是利用光源的引導(dǎo)對(duì)硅片進(jìn)行蝕刻加工的過(guò)程。但為了使摩爾定律(即每隔18個(gè)月芯片的處理能力會(huì)提高一倍；換句話說(shuō)，每隔18個(gè)月同等面積芯片上的晶體管數(shù)目會(huì)增加一倍)繼續(xù)保持它的有效性，傳統(tǒng)的光刻法在未來(lái)芯片制造過(guò)程中就會(huì)面臨著諸多難題。
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