復(fù)合材料
東麗道康寧面向SiC等新一代功率半導(dǎo)體，開發(fā)出了兼顧耐熱性及加工性的新型硅類封裝材料。特點(diǎn)是可在250℃條件下連續(xù)使用，而且加工性較高。比如，SiC功率半導(dǎo)體元件（功率元件）可在硅功率元件所限定的200℃以上的高溫下工作。在200℃以上的高溫下工作時(shí)，除功率元件外，還需提高其周邊材料的耐熱性。此次開發(fā)的新材料設(shè)想用于這些高溫工作用途。
據(jù)介紹，新材料在加工性指標(biāo)——粘度為50Pa·s時(shí)，耐熱性指標(biāo)——硬化后的熱膨脹系數(shù)可減至1.0×10-5/K。粘度越低，加工性越出色，熱膨脹系數(shù)越小，耐熱性越高。原來的硅類封裝材料很難實(shí)現(xiàn)兼顧低粘度及小熱膨脹系數(shù)。該公司表示，此次通過控制聚硅氧烷(Polysiloxane)及高性能無(wú)機(jī)微粒子，使其合成，兼顧了加工性及耐熱性。
此外，該公司與東京大學(xué)研究生院新領(lǐng)域創(chuàng)成科學(xué)研究科的大島實(shí)驗(yàn)室共同開發(fā)出了功率半導(dǎo)體散熱材料用高性能微粒子的新合成方法。該公司表示，可通過采用“超臨界流體技術(shù)”，利用廉價(jià)采購(gòu)的原料合成高性能微粒子。這樣，便可輕松與聚硅氧烷調(diào)配。
關(guān)于此次開發(fā)的封裝材料及面向散熱材料的合成法的詳細(xì)內(nèi)容，該公司預(yù)定在2010年2月17日起于東京有明國(guó)際會(huì)展中心舉辦的“nano tech2010國(guó)際納米科技綜合展及國(guó)際會(huì)議”的NEDO展區(qū)內(nèi)公開。另外，此次研究成果是通過NEDO委托的“超復(fù)合材料技術(shù)開發(fā)”項(xiàng)目取得的。
據(jù)介紹，新材料在加工性指標(biāo)——粘度為50Pa·s時(shí)，耐熱性指標(biāo)——硬化后的熱膨脹系數(shù)可減至1.0×10-5/K。粘度越低，加工性越出色，熱膨脹系數(shù)越小，耐熱性越高。原來的硅類封裝材料很難實(shí)現(xiàn)兼顧低粘度及小熱膨脹系數(shù)。該公司表示，此次通過控制聚硅氧烷(Polysiloxane)及高性能無(wú)機(jī)微粒子，使其合成，兼顧了加工性及耐熱性。
此外，該公司與東京大學(xué)研究生院新領(lǐng)域創(chuàng)成科學(xué)研究科的大島實(shí)驗(yàn)室共同開發(fā)出了功率半導(dǎo)體散熱材料用高性能微粒子的新合成方法。該公司表示，可通過采用“超臨界流體技術(shù)”，利用廉價(jià)采購(gòu)的原料合成高性能微粒子。這樣，便可輕松與聚硅氧烷調(diào)配。
關(guān)于此次開發(fā)的封裝材料及面向散熱材料的合成法的詳細(xì)內(nèi)容，該公司預(yù)定在2010年2月17日起于東京有明國(guó)際會(huì)展中心舉辦的“nano tech2010國(guó)際納米科技綜合展及國(guó)際會(huì)議”的NEDO展區(qū)內(nèi)公開。另外，此次研究成果是通過NEDO委托的“超復(fù)合材料技術(shù)開發(fā)”項(xiàng)目取得的。
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