隨著電子顯微學(xué)事業(yè)的飛躍發(fā)展,材料的電子顯微表征技術(shù)日新月異。具有場發(fā)射槍的高空間分辨分析型TEM,使人們可以采用高分辨技術(shù)、微衍射、電子能譜、電子能量損失譜對納米尺度的區(qū)域進行形貌、結(jié)構(gòu)、成分分析。球差校正TEM又將點分辨率提高到0.08nm。利用環(huán)境掃描電鏡,能在低真空下加熱、冷卻、加氣、加液觀察樣品變化。配備EBSD附件的SEM可以方便地給出材料的晶粒尺寸、晶粒取向、織構(gòu)等信息。STM的問世,實現(xiàn)了在實空間觀察到原子排成晶格結(jié)構(gòu)圖像。AFM通過檢測探針與樣品的作用能在水平方向0.1nm,垂直方向0.01nm的分辨率表征樣品三維形貌。先進的儀器設(shè)備,加上方方面面對科研事業(yè)大力支持,我國電子顯微學(xué)領(lǐng)域的研究工作已開始步入世界相關(guān)學(xué)科前沿行列中。
伴隨原位觀察與材料性能測試的需求,應(yīng)運而生的各種電鏡樣品臺的出現(xiàn)和應(yīng)用引起我國新一輪材料電子顯微學(xué)研究高潮的到來。尤其對納米材料的結(jié)構(gòu)、電、磁和力學(xué)性能的原位測量,獲得一系列嶄新的研究成果,為新材料發(fā)展與應(yīng)用推廣提供理論、實驗依據(jù)。更可喜的是具有特定功能的電鏡樣品臺,不再完全依賴外國廠商。一些單位和科研人員開始自己設(shè)計、制造。有的已經(jīng)用于材料研究工作,獲得成功,形成專利產(chǎn)品。在這種形勢下,召開全國材料電子顯微學(xué)會議展示、交流最新科研成果,促進我國材料科學(xué)發(fā)展與進步,是適時的、必要的。
為此,學(xué)會決定于2011年夏秋季召開全國材料科學(xué)電子顯微學(xué)學(xué)術(shù)研討會。大會將特別邀請國際、國內(nèi)顯微學(xué)及相關(guān)科學(xué)領(lǐng)域著名學(xué)者做特邀報告,以使我國相關(guān)領(lǐng)域的廣大電鏡工作者和青年學(xué)生獲得與這些著名學(xué)者直接交流的機會。
大會將邀請相關(guān)儀器設(shè)備的廠商做電鏡和其他儀器的最新發(fā)展介紹及產(chǎn)品展示。大會的學(xué)術(shù)交流內(nèi)容包括透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡、微束分析、掃描探針顯微鏡(包括STM、AFM等)、激光共聚焦顯微鏡等在材料科學(xué)、納米科技、化學(xué)化工、環(huán)境科學(xué)、地學(xué)等領(lǐng)域中的基礎(chǔ)和應(yīng)用研究成果;顯微學(xué)相關(guān)儀器的理論、技術(shù)和實驗方法的發(fā)展與改進;電鏡及其它顯微學(xué)儀器的使用、改進與維修經(jīng)驗的交流等。大會將設(shè)2個分會場,分別為掃描電鏡在材料科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用及透射電鏡在材料科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用分會場。
二、征文
1. 征文內(nèi)容:
(1)透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡、微束分析儀器、掃描探針顯微鏡(含掃描隧道顯微鏡,原子力顯微鏡等)、激光共聚焦顯微鏡等在材料科學(xué)、化學(xué)化工、地學(xué)、環(huán)境科學(xué)等研究領(lǐng)域和生產(chǎn)中的應(yīng)用。
(2)電子顯微鏡、微束分析儀器、掃描探針顯微鏡(含掃描隧道顯微鏡,原子力顯微鏡等)、激光共聚焦顯微鏡等儀器設(shè)備相關(guān)的理論研究,新產(chǎn)品研制,性能改進,軟件開發(fā)等。
(3)顯微學(xué)的圖像處理的理論研究,儀器設(shè)備及軟件研發(fā)。
(4)顯微學(xué)樣品制備的儀器,制樣方法和技術(shù)的研發(fā)與改進。
(5)顯微學(xué)儀器的管理、使用及維修方面的經(jīng)驗。
會議將以大會邀請報告,分會場報告,專題討論,論文展示(poster)等形式進行。
2. 論文的體裁、格式、版面要求
(1) 應(yīng)征論文應(yīng)主題突出、數(shù)據(jù)可靠、論證嚴密、圖像清晰、文句簡練。要求提供論文詳細摘要稿1份(2版面),同時請?zhí)峁┱撐娜母?份(原稿要求未在其他期刊發(fā)表過)。來稿同時用電子郵件發(fā)至編輯部(E-mail:dzxwxb@blem.ac.cn;抄送:dzxwxb@126.com)(格式見《電子顯微學(xué)報》征稿簡則,請登錄學(xué)報網(wǎng)頁查看:www.dzxwxb.ac.cn;或?qū)W會網(wǎng)站:www.china-em.net.cn)。論文摘要供會議論文(摘要)集刊用。論文全文將擇優(yōu)錄用刊載于《電子顯微學(xué)報》。
(2) 對論文要求:
入選論文摘要稿將匯編成《2011年全國材料科學(xué)電子顯微學(xué)會議論文集》,單獨印刷出版,不再屬《電子顯微學(xué)報》。論文集為大16開本,文稿全部內(nèi)容排在170mm×240mm的版面內(nèi),每篇論文摘要可占2個版面,所附圖片要求另用A4白紙剪裁整齊,規(guī)范排好。附英文題目、作者單位及作者姓名的漢語拼音。文集將在會議前出版。(參閱歷屆全國電子顯微學(xué)會議出版的論文摘要集的版面格式)
擇優(yōu)選用的論文全文稿將在《電子顯微學(xué)報》以正刊形式于2011年發(fā)表。要求有詳細的英文摘要。
(3) 來稿由學(xué)術(shù)委員會組織專家審閱,根據(jù)文章水平及圖片質(zhì)量擇優(yōu)選用。來稿不論選用與否,概不退回。
(4) 征文截稿日期為2011年4月30日,以郵戳為準。來稿請寫明聯(lián)系人的姓名、地址、郵編、電話(含手機)及E-mail地址等。論文稿請寄“北京市中關(guān)村北二條13號,中國電子顯微鏡學(xué)會2011年全國材料科學(xué)電子顯微學(xué)會議秘書處,郵編100190”。過時恕不受理。
聯(lián)系電話:010-82671519(編輯部 李寧春);E-mail:dzxwxb@blem.ac.cn;dzxwxb@126.com
(征文文章)
010-82673560(秘書處 胡萍) E-mail:cemshp@163.cn(會議具體事務(wù))
中國電子顯微鏡學(xué)會
“2011年全國材料科學(xué)電子顯微學(xué)會議”秘書處
2010年12月30日