2011-12-14 來源:中國聚合物網(wǎng)
關(guān)鍵詞：干泵 Edwards 原子層沉積 尾氣處理設(shè)備 PECVD MOCVD
新型干泵經(jīng)優(yōu)化用于需要較高氣體流量和靈活泵溫范圍（pump temperature profiles）的太陽能、平板顯示器和半導(dǎo)體工藝
英國西薩塞克斯郡，克勞雷 (2011年12月14日)－全球領(lǐng)先的真空和尾氣處理設(shè)備及服務(wù)供應(yīng)商Edwards公司擴展其廣受歡迎的應(yīng)用于嚴苛工藝的iXH產(chǎn)品系列，最新推出iXH500H系列干泵。新的500m3/h干泵系列針對需要較高氣體流量和靈活泵溫范圍的平板顯示器、太陽能和先進半導(dǎo)體工藝而優(yōu)化，具有較低的能耗和較長的平均維護間隔時間(mean time between servicing， MTBS)，從而顯著降低了擁有成本，同時具備iXH450系列的小占位面積和氫氣抽取能力。
Edwards平板顯示器(FPD)和太陽能部門干泵產(chǎn)品經(jīng)理Allister Watson博士表示：“iXH家族的新增系列設(shè)計用于應(yīng)對平板顯示器、太陽能和先進半導(dǎo)體工藝中遇到的不同抽取挑戰(zhàn)，能夠顯著延長泵的平均維護間隔時間。迄今為止，行業(yè)缺乏具有應(yīng)對這些不同挑戰(zhàn)靈活性的一體化嚴苛工藝干泵。而iXH500H系列具有更靈活地泵溫控制，能夠滿足這一需求，同時減少多達15%的能耗。因而相比上一代iXH干泵，iXH500H的擁有成本降低了30%。”
平板顯示器、太陽能和半導(dǎo)體制造商使用的真空泵必須適應(yīng)廣泛的工作條件和材料。iXH500H系列具有溫度靈活性，因而適用于這類嚴苛工藝。iXH500H系列在低泵溫下運行，有益于使用高流量腐蝕性氣體的工藝(例如，FPD PECVD、薄膜太陽能PECVD、半導(dǎo)體MOCVD)，或使用熱敏前體（pre-cursor）(例如原子層沉積)能夠在泵內(nèi)沉淀副產(chǎn)物的工藝。在有副產(chǎn)品物在泵內(nèi)冷凝風險(例如高k電介質(zhì)沉積)的場合，可以選擇高工作溫度的泵。
Edwards現(xiàn)可提供iXH500H系列干泵，并提供從現(xiàn)有的iXH450系列轉(zhuǎn)換至新型iXH500H系列的升級服務(wù)。
要了解更多的信息，請訪問公司網(wǎng)站：www.edwardsvacuum.com。
注解：
PECVD：等離子化學(xué)氣相沉積；
MOCVD：金屬有機化學(xué)氣相沉積
* 溫室氣體議定書 ——第三部分：間接排放