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沃特世新型的Xevo G2 Tof臺(tái)式系統(tǒng)問世
2011-3-11 來源:中國聚合物網(wǎng)
關(guān)鍵詞:質(zhì)譜儀
    米爾福德, 馬薩諸塞州 - 2011年1月10日,沃特世公司 (NYSE:WAT) 今天介紹了具有UPLC®/MSE 和 QuanTof™技術(shù)的Waters® Xevo® G2 Tof (飛行時(shí)間) 質(zhì)譜儀 (MS),該儀器為需滿懷信心對(duì)復(fù)合樣品中未知化合物進(jìn)行鑒別和定量的科學(xué)家們提供了任何臺(tái)式MS系統(tǒng)中靈敏度最高的準(zhǔn)確質(zhì)量定量和定性性能。

  “為了推動(dòng)科學(xué)的發(fā)展,我們的客戶告訴我們,他們需要超高效液相色譜(UPLC®)的所有靈敏度、選擇性和速度優(yōu)點(diǎn)的同時(shí),還要求有高分辨率準(zhǔn)確質(zhì)量MS的定量和定性性能!蔽痔厥拦痉植匡w行時(shí)間質(zhì)譜儀產(chǎn)品經(jīng)理Gordon Kearney稱,“在UPLC數(shù)據(jù)采集速率和有限的實(shí)驗(yàn)室工作效率下,其它質(zhì)譜儀具有更差的質(zhì)量分辨率,從而無法從單一分析中于樣品的每個(gè)可檢測組分上獲取準(zhǔn)確質(zhì)量前體和碎片離子的信息。憑借UPLC/MSE 和 QuanTof技術(shù),Xevo G2 Tof不再存在這樣的局限性,從而使我們的客戶可成功進(jìn)行實(shí)驗(yàn),而無需折中處理!

  借助QuanTof技術(shù),Xevo G2 Tof將市場領(lǐng)先、研究級(jí)別的SYNAPT® G2技術(shù)引進(jìn)易于使用的臺(tái)式系統(tǒng),使系統(tǒng)的定量和定性性能達(dá)到嶄新的水平。QuanTof 技術(shù)將創(chuàng)新型高電廠推進(jìn)器和雙階反射技術(shù)與最佳飛行時(shí)間幾何結(jié)構(gòu)中的新型離子檢測系統(tǒng)相結(jié)合。二者的結(jié)合使得唯獨(dú)能在UPLC分離兼容的采集速率下取得的高分辨率、準(zhǔn)確質(zhì)量和定量性能達(dá)到嶄新的高度。

  進(jìn)一步促進(jìn)系統(tǒng)性能的是數(shù)據(jù)采集采用UPLC/MSE技術(shù),這種數(shù)據(jù)采集方法允許使用者從單一數(shù)據(jù)組中查看高質(zhì)量的、確鑿的準(zhǔn)確質(zhì)量前體和碎片離子數(shù)據(jù);基本上,它可在任何時(shí)間獲取任何數(shù)據(jù)。

  在整個(gè)質(zhì)譜儀家族中,沃特世公司采用廣泛的、通用離子源結(jié)構(gòu)包括UPLC液相接口和離子源,這些通用的離子源結(jié)構(gòu)使Xevo G2 Tof的實(shí)驗(yàn)選項(xiàng)和研究應(yīng)用的數(shù)量最大化, 它們由nanoACQUITY UPLC® 和 TRIZAIC™ UPLC進(jìn)樣和離子源組成,各種離子源包括:電噴霧電離源(ESI)、nanoflow ESI、大氣壓化學(xué)電離源(APCi)、ESI/APCi組合源(ESCi)、大氣壓固相分析探頭 (ASAP)及大氣壓氣相色譜源(APGC)。

  沃特世工程精簡(Engineered Simplicity™)技術(shù)大大提高了用戶對(duì)于Xevo G2 Tof性能和多功能的可及性。

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(小徐)