在多結(jié)構(gòu)高分子表面制備ZnO陣列的方法
發(fā)明/申請人：王磊；鄭詠梅
專利號/申請?zhí)枺篫L201310310268
授權(quán)/申請日期：2015-4-15
本發(fā)明公開了一種在多結(jié)構(gòu)高分子表面制備ZnO陣列的方法，屬于界面化學(xué)領(lǐng)域。所述方法包括緩沖材料的制備，基底材料表面的修飾以及二者結(jié)合后ZnO陣列的生長的步驟。本發(fā)明解決了ZnO和高分子表面的結(jié)合問題，實現(xiàn)了良好的實驗重復(fù)性；解決了高分子和無機(jī)ZnO材料的結(jié)合問題，可以在多種高分子材料表面實現(xiàn)制備；本發(fā)明的制備周期短，可以實現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。