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膜厚對(duì)四面體非晶碳膜機(jī)械性能的影響  
膜厚對(duì)四面體非晶碳膜機(jī)械性能的影響
資料類型： PDF文件
關(guān)鍵詞： 四面體非晶碳  過(guò)濾陰極真空電弧  機(jī)械性能  應(yīng)力  
資料大?。?/td> 125K
所屬學(xué)科： 性能表征
來(lái)源： 來(lái)源網(wǎng)絡(luò)
簡(jiǎn)介：
采用過(guò)濾陰極真空電弧技術(shù)以相同的工藝條件在p（100）單晶硅襯底上制備了不同厚度的四面體非晶碳薄膜，并利用表面輪廓儀測(cè)試薄膜的厚度和應(yīng)力，利用納米壓入儀測(cè)試薄膜的硬度、楊氏模量和臨界刮擦載荷。試驗(yàn)表明，在一定的掃描波形條件下，薄膜大約以0.7nm/s的沉積速率穩(wěn)定生長(zhǎng)。隨著膜厚的增加，薄膜的應(yīng)力持續(xù)降低，當(dāng)膜厚超過(guò)30nm時(shí)，應(yīng)力將低于5GPa；當(dāng)膜厚超過(guò)300nm時(shí)，硬度和楊氏模量分別將近70GPa和750GPa，已經(jīng)十分接近體金剛石的性能指標(biāo)。另外，隨著膜厚增加所產(chǎn)生的應(yīng)力變化，也導(dǎo)致了可見光拉曼光譜非對(duì)稱寬峰的峰位逐漸向低頻偏移。
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上傳時(shí)間： 2007-07-11 14:31:26
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