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非制冷紅外探測器用BST薄膜的制備與性能研究 |
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資料類型: |
PDF文件
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關(guān)鍵詞: |
BST薄膜 射頻濺射 低溫沉積 紅外探測器 |
資料大小: |
280K |
所屬學(xué)科: |
性能表征 |
來源: |
來源網(wǎng)絡(luò) |
簡介: |
利用傳統(tǒng)陶瓷工藝制備出BST(65/35)倒筒靶,采用射頻濺射法沉積薄膜。開展了對Pt/Ti/SiO2/Si基底熱處理工藝與BST同質(zhì)緩沖層研究,總結(jié)出了可以確保基底界面性能良好、BST薄膜結(jié)構(gòu)致密的工藝方法。介電性能測試表明:BST薄膜的介電常數(shù)約為60~70,介電損耗為1.5%~2.5%,居里溫度為284K,介電溫度系數(shù)(TCD)為0.5%。漏電流測試表明:在1MV/cm電場下,漏電流密度為1.910-6A/cm2。 |
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上傳人: |
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上傳時間: |
2007-07-12 17:35:25 |
下載次數(shù): |
577 |
消耗積分: |
2
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