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NdCl3鍍液濃度對電鍍CoNdNiMnP永磁薄膜陣列磁性能的影響  
NdCl3鍍液濃度對電鍍CoNdNiMnP永磁薄膜陣列磁性能的影響
資料類型： PDF文件
關(guān)鍵詞： CoNdNiMnP永磁薄膜陣列  電鍍  垂直各向異性  鐵磁耦合  
資料大?。?/td> 126K
所屬學科： 性能表征
來源： 來源網(wǎng)絡
簡介：
基于輕稀土元素-Nd與過渡金屬元素-Co之間的鐵磁耦合作用提高電鍍CoNiMnP永磁薄膜陣列的磁性能，在電鍍時引入稀土Nd元素進入CoNiMnP永磁薄膜陣列中，通過改變鍍液中NdCl3的濃度而改變CoNdNiMnP薄膜中的Nd含量。對鍍液中NdCl3濃度與薄膜磁性能的關(guān)系進行了分析與測試，結(jié)果表明：室溫下，在電流密度為5mA/cm2時，具有垂直各向異性的CoNdNiMnP永磁薄膜陣列被成功地電鍍得到。隨著NdCl3濃度的增加，薄膜的磁性能提高，當NdCl3濃度增加到0.25103g/cm3時，薄膜的磁性能達到最大值，繼續(xù)增加鍍液中NdCl3濃度，薄膜陣列的磁性能不再增加。
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上傳時間： 2007-07-16 14:14:04
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