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> 利用膠體刻蝕技術(shù)與可控去潤(rùn)濕相結(jié)合構(gòu)造異質(zhì)雙環(huán)陣列
利用膠體刻蝕技術(shù)與可控去潤(rùn)濕相結(jié)合構(gòu)造異質(zhì)雙環(huán)陣列
利用膠體刻蝕技術(shù)與可控去潤(rùn)濕相結(jié)合構(gòu)造異質(zhì)雙環(huán)陣列
資料類型:
PDF文件
關(guān)鍵詞:
有序陣列
去潤(rùn)濕
膠體刻蝕
異質(zhì)
資料大?。?/td>
4220K
所屬學(xué)科:
分子表征
來(lái)源:
2011年全國(guó)高分子學(xué)術(shù)論文報(bào)告會(huì)(2011.9.24~28,大連)
簡(jiǎn)介:
近幾年來(lái),尺寸精確的納米級(jí)圖案或結(jié)構(gòu)引起了科學(xué)家和工程師們的很大興趣,這是由于這些結(jié)構(gòu)在很多領(lǐng)域都有很大的潛在應(yīng)用價(jià)值。亞微米尺寸的環(huán)在近幾年被廣泛的研究。將金屬的或超導(dǎo)材料的環(huán)放置于磁場(chǎng)當(dāng)中,就能夠引起持久電流。
作者:
朱迪夫,黃賀,張剛,楊柏
上傳時(shí)間:
2012-02-06 13:47:22
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1
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