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以N-芳基吡咯為共軛橋高分子的合成及其雙光子吸收性能  
以N-芳基吡咯為共軛橋高分子的合成及其雙光子吸收性能
資料類(lèi)型： PDF文件
關(guān)鍵詞： 雙光子吸收  吡咯  間隔基團(tuán)  
資料大?。?/td> 307K
所屬學(xué)科： 分子表征
來(lái)源： 2011年全國(guó)高分子學(xué)術(shù)論文報(bào)告會(huì)（2011.9.24~28，大連）
簡(jiǎn)介：
本文設(shè)計(jì)和合成了3個(gè)基于N-芳基吡咯的共軛高分子，它們?cè)谒臍溥秽南∪芤褐杏泻軓?qiáng)的熒光和較高的量子產(chǎn)率。通過(guò)上轉(zhuǎn)換熒光法測(cè)試其雙光子截面值分別為752,1114和1869GM。研究其結(jié)構(gòu)和性能的關(guān)系表明，在高分子主鏈中加入富電子和缺電子的基團(tuán)有利于其雙光子截面值的提高。
作者： 李倩倩，黃靜，彭鳴，鐘奧書(shū)，秦金貴，李振
上傳時(shí)間： 2012-02-28 14:23:04
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