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華南理工大學(xué)郭子豪課題組:結(jié)晶誘導(dǎo)自組裝獲取極小相分離尺度
2021-05-28  來源:高分子科技

  如何獲得具有極小尺度特別是5納米以下特征尺度的周期性二維或者三維材料,這對(duì)發(fā)展具有高密度存儲(chǔ)性能的半導(dǎo)體器件以及高通量分子級(jí)別的分離等技術(shù)具有非常重要的意義。嵌段共聚物是目前被研究最多的體系之一。由于其不同嵌段往往具有熱力學(xué)不相容性,在達(dá)到一定分子量的情況下,嵌段共聚物能夠自發(fā)排列形成熱力學(xué)穩(wěn)定的微納尺度相分離有序結(jié)構(gòu)(如圖1)。然而,通過這種方法依然很難獲得具有小于5納米以下特征尺度的有序相分離結(jié)構(gòu)。


圖1 熱力學(xué)不相容性誘導(dǎo)的微相分離的示意圖(以層狀相為例,其中(χN)ODTχN在有序-無序相態(tài)轉(zhuǎn)變的臨界值)。


  近日,華南理工大學(xué)郭子豪課題組利用具有精確分子量的巨型分子,通過巨型分子中乙烯基寡聚倍半籠硅氧烷(VPOSS)的結(jié)晶誘導(dǎo)作用力,形成具有極小相分離尺度的層狀(Lamellar)自組裝體(圖2)。此外,自組裝體中的VPOSS部分,在伽馬射線(γ-ray)的作用下能夠通過雙鍵的交聯(lián)形成厚度在2納米左右的二維片狀結(jié)構(gòu)。


圖2 基于巨型分子VPOSS-oLLAn自組裝形成層狀相并獲取納米片的示意圖。


  寡聚倍半籠硅氧烷(POSS)具有剛性的籠狀骨架,并且易于通過化學(xué)方法進(jìn)行功能化修飾。重要的是,POSS的分子尺度在1個(gè)納米左右,是重要的用于制備微納結(jié)構(gòu)的組裝單元。為了能夠精確控制相分離的尺度,研究人員將具有精確分子量的寡聚左旋乳酸分子(oLLAn)引入到VPOSS分子結(jié)構(gòu)上,形成一系列具有精確分子量的巨型分子(VPOSS-oLLAn)。研究表明,由于VPOSS具有強(qiáng)烈的結(jié)晶趨勢(shì),能夠誘導(dǎo)VPOSS-oLLAn形成具有小于10納米特征尺度的層狀結(jié)構(gòu)。其中,VPOSS-oLLA2能夠形成3納米特征尺度的相分離層狀相(如圖3),這也是已知大分子本體自組裝領(lǐng)域所能夠獲得的最小周期尺寸。


圖3 巨型分子VPOSS-oLLAn的SAXS圖(a)和VPOSS-oLLA2的TEM圖(b)。


  另外,不同于VPOSS-oLLA2/4/8,巨型分子VPOSS-oLLA16q = 1.06,1.19,1.35 ?-1(2θ = 14.9°, 16.8° and 19.2°)處分別出現(xiàn)了三個(gè)峰(如圖4a),這分別對(duì)應(yīng)于PLLA α晶型的晶面。將VPOSS-oLLA16進(jìn)行退火,發(fā)現(xiàn)在oLLA結(jié)晶峰消失(如圖4b),而層狀相和VPOSS的結(jié)晶峰仍然保持。為了驗(yàn)證巨型分子VPOSS-oLLAn自組裝的驅(qū)動(dòng)力來自于VPOSS的結(jié)晶,研究人員將分子量最小的VPOSS-oLLA2進(jìn)一步修飾成不結(jié)晶的MPOSS-oLLA2(如圖4c)。發(fā)現(xiàn)MPOSS-oLLA2和VPOSS-oLLA2在相同的處理?xiàng)l件下,MPOSS-oLLA2的結(jié)構(gòu)峰消失。這表明巨型分子自組裝為層狀相結(jié)構(gòu)確實(shí)是由于VPOSS的結(jié)晶所主導(dǎo)的。有意思的是,在VPOSS-oLLAn中,層狀周期尺寸和oLLA的重復(fù)單元成線性的關(guān)系(如圖4d),這與二元嵌段共聚物中強(qiáng)相分凝下的d~χ1/6N2/3關(guān)系有所差別。進(jìn)一步通過VPOSS和oLLA橫截面積的計(jì)算,發(fā)現(xiàn)前者的橫截面積大約為后者的兩倍,于是推導(dǎo)出VPOSS-oLLAn“交叉式”的分子排列方式(如圖2)。


圖4 (a)退火前的VPOSS-oLLAn的WAXD圖。(b)VPOSS-oLLA16退火前(紫色曲線)與退火后(綠色曲線)的WAXD圖。(c)MPOSS-oLLA2的SAXS圖。(d)VPOSS-oLLAn周期尺寸與oLLA重復(fù)單元的關(guān)系圖。


  此外,由于VPOSS片段富含碳碳雙鍵,能夠通過γ射線的照射進(jìn)行雙鍵聚合將VPOSS交聯(lián)。這種利用γ射線進(jìn)行交聯(lián)的方法相比于加入交聯(lián)劑的方法能夠不破壞原有組裝結(jié)構(gòu)。進(jìn)一步,將制備所得的交聯(lián)材料在400℃進(jìn)行熱解移除oLLA部分,隨后采用超聲分散的方式,可制備得2納米左右的納米片,厚度約為兩個(gè)VPOSS的尺寸(如圖5)。


圖5 由VPOSS-oLLA16制備得的二維納米片的TEM(a)和AFM(b)及對(duì)應(yīng)的高度(c)圖。


  在本項(xiàng)研究中,以結(jié)晶誘導(dǎo)的策略成功實(shí)現(xiàn)了小于5納米層狀周期結(jié)構(gòu)的構(gòu)筑。由于POSS嵌段富含硅元素,從而具有高刻蝕襯度并且易于轉(zhuǎn)化為二氧化硅材料,因而該體系有望進(jìn)一步地實(shí)現(xiàn)圖案化應(yīng)用。這種通過結(jié)晶誘導(dǎo)自組裝的策略為制備具有極小周期性結(jié)構(gòu)的新材料提供了一種新的思路。


  該研究成果以“Crystallization Induced Self-Assembly: A Strategy to Achieve Ultra-Small Domain Sizes”為題發(fā)表在《Chem. Eur. J.》上,并被評(píng)為cover feature文章。華南理工大學(xué)分子科學(xué)與工程學(xué)院2018級(jí)碩士生紀(jì)明升為論文的第一作者,郭子豪副教授為通訊作者。該研究工作得到了國家自然科學(xué)基金(No. 22003017和No. 91856128)和廣東省“珠江人才計(jì)劃”(No. 2016ZT06C322)的資助。


  原文鏈接:https://chemistry-europe.onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/chem.202100638

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