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表面熱處理對氮化硼薄膜場發(fā)射特性的影響  
表面熱處理對氮化硼薄膜場發(fā)射特性的影響
資料類型： PDF文件
關(guān)鍵詞： 氮化硼薄膜  表面熱處理  場發(fā)射  發(fā)射電流  閾值電場  
資料大?。?/td> 112K
所屬學(xué)科： 性能表征
來源： 來源網(wǎng)絡(luò)
簡介：
用RF磁控濺射的方法在最佳沉積條件下在Si（100）基底上沉積了納米氮化硼薄膜，然后對薄膜在真空度低于510-4Pa、溫度分別為800℃和1000℃條件下進(jìn)行了表面熱處理，分別用紅外光譜、原子力顯微鏡以及不同退火溫度的場發(fā)射試驗(yàn)對薄膜進(jìn)行了研究，結(jié)果表明表面熱處理對BN薄膜的表面形貌沒有明顯影響，樣品場發(fā)射特性的變化可能與表面負(fù)電子親和勢有關(guān)，未進(jìn)行熱處理的樣品閾值電場較低，可能歸因于表面負(fù)電子親和勢效應(yīng)，閾值電場為8V/&micro；m，發(fā)射電流為80&micro；A，熱處理溫度為800℃時，負(fù)電子親和勢仍然存在，直到熱處理溫度達(dá)到1000℃時，表面負(fù)電子親和勢才消失。
上傳人：
上傳時間： 2007-07-11 14:07:13
下載次數(shù)： 586
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