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嵌段共聚物薄膜在化學(xué)圖案上的引導(dǎo)組裝  
嵌段共聚物薄膜在化學(xué)圖案上的引導(dǎo)組裝
資料類型： PDF文件
關(guān)鍵詞：
資料大小： 570K
所屬學(xué)科： 分子表征
來源： 第十三屆全國應(yīng)用化學(xué)會議論文集（2013.8.23~26，長春）
簡介：
從上世紀70年代的10μｍ制程技術(shù)開始到2012年英特爾量產(chǎn)22nmIvyBridge處理器，在過去的半個世紀里半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)給人類生活帶來了翻天覆地的變化。眾所周知，半導(dǎo)體行業(yè)采用光刻法來制造處理器?，F(xiàn)今業(yè)界采用的光刻光源是193nm紫外光，一次曝光只能制備節(jié)距不小于80納米的結(jié)構(gòu)，想要制造更細微的納米結(jié)構(gòu)，必須采用液浸曝光技術(shù)兩次或多次曝光[1]。迄今為止，業(yè)界仍未確定制備16nm或者更小的動態(tài)隨機存儲器或微處理器單元半節(jié)距(DRAMorMPUl/2pitch)的光學(xué)方案。但是，美國半導(dǎo)體研究聯(lián)盟遴選出潛在的可用于制備16和IInmMPU/DRAM的六種備選技術(shù)，其中包括“DSA+litho”，即嵌段共聚物的引導(dǎo)組裝...
作者： 季生象
上傳時間： 2013-10-28 14:57:04
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pangyy52    2014-05-04 12:04:02
好，感謝分享！
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