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WO3薄膜退火熱處理工藝的研究  
WO3薄膜退火熱處理工藝的研究
資料類型: PDF文件
關鍵詞: WO3  SEM  XRD  薄膜  退火  
資料大小: 272K
所屬學科:
來源: 來源網(wǎng)絡
簡介:
采用真空鍍膜工藝在微晶玻璃襯底上沉積了WO3薄膜,WO3薄膜從300~600℃分別進行了退火熱處理,隨著退火熱處理溫度的不同,WO3薄膜從晶粒尺寸上以及晶相上都發(fā)生了較大的變化,并用SEM、XRD等手段進行了分析,隨著退火熱處理溫度的升高,WO3晶粒逐漸增大,并實現(xiàn)了從非晶向晶態(tài)的轉變,最終得到了六方結構并且是在[100]方向上擇優(yōu)取向的WO3薄膜,獲得了穩(wěn)定性較好的工藝條件,為進一步開發(fā)研制WO3氣敏元件提供了技術基礎。
上傳人:
上傳時間: 2007-07-06 16:16:06
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相關評論 共有3人發(fā)表評論 更多評論
LPT2006    2009-01-06 10:28:26
還行,挺有幫助的!
sunyusunyu77    2008-11-21 21:17:32
我覺得這篇文章不錯
sunyusunyu77    2008-11-21 21:13:16
這篇文章不是特別的好,但是非常感謝
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