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Ti-O薄膜的濺射刻蝕微形貌表面對內(nèi)皮細胞生長的影響  
Ti-O薄膜的濺射刻蝕微形貌表面對內(nèi)皮細胞生長的影響
資料類型： PDF文件
關鍵詞： 磁控濺射  刻蝕  Ti-O薄膜  表面形貌  內(nèi)皮細胞  
資料大?。?/td> 103K
所屬學科：
來源： 來源網(wǎng)絡
簡介：
利用磁控濺射合成具有一定特性的Ti-O薄膜，并采用Ar離子濺射刻蝕該薄膜表面。運用原子力顯微鏡(AFM)，X射線衍射(XRD)對刻蝕后的薄膜表面微觀形貌、微結構進行表征。結果表明：薄膜的結構未發(fā)生變化，表面的粗糙度減小。進一步的人臍靜脈內(nèi)皮細胞(HUVEC)種植實驗表明：表面粗糙度的變化對內(nèi)皮細胞的貼附、生長與增殖有很大的影響。
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上傳時間： 2007-07-10 15:27:33
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