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Ti-O薄膜的濺射刻蝕微形貌表面對(duì)內(nèi)皮細(xì)胞生長(zhǎng)的影響  
Ti-O薄膜的濺射刻蝕微形貌表面對(duì)內(nèi)皮細(xì)胞生長(zhǎng)的影響
資料類(lèi)型： PDF文件
關(guān)鍵詞： 磁控濺射  刻蝕  Ti-O薄膜  表面形貌  內(nèi)皮細(xì)胞  
資料大?。?/td> 103K
所屬學(xué)科：
來(lái)源： 來(lái)源網(wǎng)絡(luò)
簡(jiǎn)介：
利用磁控濺射合成具有一定特性的Ti-O薄膜，并采用Ar離子濺射刻蝕該薄膜表面。運(yùn)用原子力顯微鏡(AFM)，X射線衍射(XRD)對(duì)刻蝕后的薄膜表面微觀形貌、微結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征。結(jié)果表明：薄膜的結(jié)構(gòu)未發(fā)生變化，表面的粗糙度減小。進(jìn)一步的人臍靜脈內(nèi)皮細(xì)胞(HUVEC)種植實(shí)驗(yàn)表明：表面粗糙度的變化對(duì)內(nèi)皮細(xì)胞的貼附、生長(zhǎng)與增殖有很大的影響。
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上傳時(shí)間： 2007-07-10 15:27:33
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