簡介: |
采用EA-CVD(ElectronAssistedChemicalVaporDeposition)方法制備金剛石厚膜,在反應(yīng)氣體(CH4+H2)中添加乙醇,在保持其它條件不變的情況下研究了不同乙醇流量對金剛石膜生長的影響。利用拉曼光譜和SEM等測試方法對金剛石膜進(jìn)行了表征,證實乙醇電離時產(chǎn)生的氫氧鍵對金剛石有很強的刻蝕作用。在沉積過程中向系統(tǒng)中加入乙醇對金剛石膜表面形貌有顯著的影響,適量的乙醇有利于提高膜品質(zhì)和生長速率,但過量的乙醇會導(dǎo)致對金剛石表面的刻蝕加劇,使金剛石膜的生長受到抑制。 |
|