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上海交大莊小東教授團隊 Adv. Mater.:基于銠-碳配位鍵的晶態(tài)二維配位聚合物
2025-03-28  來源:高分子科技

  二維金屬有機框架(MOFs)因其化學可調(diào)性、結(jié)構(gòu)各向異性和卓越的電荷傳輸特性,在能源器件、光電子學和生物應用等領(lǐng)域展現(xiàn)出廣闊前景。這類材料的特性源于兩方面:一是金屬與配體間軌道雜化形成的面內(nèi)共軛網(wǎng)絡,二是面外的范德華相互作用。基于金屬-碳配位的二維MOFs鮮有報道,盡管其在光活性和催化活性方面具有顯著潛力。這類二維MOFs的罕見性主要歸因于其化學穩(wěn)定性差以及合成條件復雜苛刻。


  金屬-碳配位環(huán)境,一直以來都是有機合成領(lǐng)域催化劑開發(fā)的重要構(gòu)筑對象。含有金屬-碳位點的金屬有機配合物在有機催化和藥物合成中具有關(guān)鍵作用。然而,這類分子催化劑化學穩(wěn)定性較差。具有多孔且穩(wěn)定晶格的二維MOFs可作為金屬-碳活性位點的理想載體。盡管研究者已嘗試通過合成后修飾法將金屬-碳位點引入到二維MOFs中,但這些方法存在金屬負載量低、穩(wěn)定性差及結(jié)構(gòu)表征困難等問題;诮饘-碳配位的二維MOFs的直接合成長期面臨挑戰(zhàn),更遑論對其電學性質(zhì)和催化活性的系統(tǒng)研究。普適性合成策略的缺失和結(jié)晶度不理想的問題,阻礙了這類二維MOFs材料的構(gòu)效關(guān)系研究與應用開發(fā)。


  最近,上海交通大學化學化工學院莊小東教授團隊,通過簡單的惰性環(huán)境下的溶液合成法,合成了一系列基于銠-異氰(Rh-iCN)配位的二維MOFs(圖1)。這是繼202412月所開發(fā)的Ag-iCN配位基二維MOFs之后的又一例全新的金屬-碳配位鍵基二維配位聚合物體系(Angew. Chem. Int. Ed. 202564, e202417658;doi.org/10.1002/anie.202417658)。


  這類二維MOFs材料通過芳基二異氰化物配體與氯(1,5-環(huán)辛二烯)(I)二聚體的配位反應制備而成。以Rh(I)為中心的Rh-C4配位位點被直接構(gòu)筑到二維MOFs晶格中,形成了具有空氣穩(wěn)定性的結(jié)構(gòu)。粉末X射線衍射證明,合成的二維MOFs具有高結(jié)晶度以及層狀AA堆疊模式(圖2)。通過球差校正高分辨透射電子顯微鏡和電子衍射分析,確認了二維MOFs材料具有面內(nèi)準方形晶格網(wǎng)絡結(jié)構(gòu)(圖34)。


  密度泛函理論計算的能帶結(jié)構(gòu)預測,合成的二維MOFs具有極窄的直接帶隙(0.10 - 0.28 eV)。太赫茲光譜測試表明這類二維MOFs材料具有超高的本征載流子遷移率,最高達到560 ± 46 cm2 V-1 s-1(圖5具有明確Rh-C4活性位點的MOFs材料在電催化氮還原反應中展現(xiàn)出卓越的催化性能,實現(xiàn)了高達87.1 ± 1.8%的氮氣至氨轉(zhuǎn)化法拉第效率。在線微分電化學質(zhì)譜和原位衰減全反射表面增強紅外吸收光譜揭示了材料上發(fā)生的雙電子(2e-)轉(zhuǎn)移和遠端反應路徑(圖6)。本工作不僅拓展了具有超高載流子遷移率的二維網(wǎng)狀化學的結(jié)構(gòu)版圖,也為電催化領(lǐng)域中金屬-Cx活性位點的開發(fā)樹立了重要里程碑。



1基于銠-異氰的二維MOFs的設(shè)計策略與合成。(a) 通過異氰化物與銠配合物之間的配位合成模型化合物。(b) 不同雙臂異氰化物配體與銠配合物構(gòu)建而成的二維金屬有機框架(SJTUs)。



2SJTUsPXRD圖譜及模擬結(jié)構(gòu)。(a-c) SJTUs的實驗(紅點)、Pawley精修(灰線)、計算PXRD圖譜以及差異圖。SJTU-201 (a);SJTU-202 (b);SJTU-203 (c)。插圖:SJTU-201的局部放大模擬圖譜。SJTU-201 (d)、SJTU-202 (f)SJTU-203 (h)的空間填充模型(垂直于ab平面觀察)及其相應的晶格參數(shù)。橙色、藍色和灰色球體分別代表RhNC原子。SJTU-201 (e)SJTU-202 (g)SJTU-203 (i)的球棍模型(平行于ab平面觀察)、層間距和相鄰層中Rh原子之間的距離。



3. SJTUs的面內(nèi)網(wǎng)絡結(jié)構(gòu)。SJTU-201 (a)SJTU-202 (c)SJTU-203 (e)沿[001]方向的AC-HRTEM圖像,顯示出了方形和菱形孔道堆積(比例尺:10 nm)。SJTU-201 (b)、SJTU-202 (d)SJTU-203 (f)的放大和模擬(左側(cè))HRTEM圖像以及晶面間距(比例尺:2 nm)。插圖為SJTUs的優(yōu)化模型。



4. SJTUs的電子衍射圖譜。(a-c) 沿[001]方向觀察的SJTUs實驗電子衍射圖譜。比例尺2 nm?1SJTU-201 (a);SJTU-202 (b);SJTU-203 (c)。(d-f) 沿[001]方向觀察的SJTUs模擬電子衍射圖譜SJTU-201 (d);SJTU-202 (e);SJTU-203 (f)。(g-i) 根據(jù)電子衍射圖譜分析得出的SJTUs晶體結(jié)構(gòu)。SJTU-201 (g)SJTU-202 (h);SJTU-203 (i)



5. SJTUs的能帶結(jié)構(gòu)計算及電荷傳輸特性。(a-c) 采用DFT計算的SJTU-201 (a)、SJTU-202 (b)SJTU-203 (c)的能帶結(jié)構(gòu)及投影態(tài)密度(PDOS)。(d-f) SJTU-201 (d)SJTU-202 (e)SJTU-203 (f)的第一布里淵區(qū)及K路徑。(g) SJTUsTauc圖。插圖為SJTUs的漫反射紫外-可見光譜。(h) SJTUs的時間分辨太赫茲光電導率隨泵浦-探測延遲時間的變化。(i) 在最大光電導率后約1 ps處測量的SJTUs的頻率分辨復數(shù)太赫茲面光電導率。虛線和實線分別對應于Drude-Smith模型對復數(shù)太赫茲面光電導率虛部和實部的擬合。



6SJTUs的電催化NRR性能。(a) SJTUsAr飽和和N?飽和的0.1 M K2SO4中的LSV曲線。(b) SJTUsN2飽和的0.1 M K2SO4中不同施加電位下的法拉第效率FE。(c) SJTUs在不同施加電位下的NH3產(chǎn)率。(d) SJTUs與已報道的代表性MOFs、COFs、SACsRh基催化劑的FENH3產(chǎn)率對比。(e) SJTU-201N2飽和的0.1 M K2SO4中隨施加電壓變化的DEMS譜圖。(f) SJTU-2010.1 M K2SO4中不同電位下的原位ATR-SEIRAS譜圖。(g) SJTU-201ENRR過程(遠端路徑、交替路徑和2e?轉(zhuǎn)移路徑)的反應自由能計算。


  目前該工作以“2D Rhodium-Isocyanide Frameworks”為題在線發(fā)表在《先進材料》(AdvMater. 2025, 2502192.)上。上海交通大學化學化工學院博士研究生黃森鶴、上海科技大學物質(zhì)科學與技術(shù)學院博士研究生燕樸、上海電機學院材料學院韓治亞博士為該論文的共同第一作者。該項工作得到了國家基金委、上海市科委、中國博士后基金等資助。


  原文鏈接:https://doi.org/10.1002/adma.202502192

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(責任編輯:xu)
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