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SrTiO3襯底上濺射法外延生長PLZT薄膜 |
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資料類型: |
PDF文件
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關(guān)鍵詞: |
SrTiO3襯底 PLZT膜 濺射條件 外延生長 |
資料大?。?/td>
| 163K |
所屬學科: |
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來源: |
來源網(wǎng)絡(luò) |
簡介: |
用射頻磁控濺射法在SrTiO3襯底上外延生長PLZT薄膜,研究了不同的濺射工藝對薄膜生長速率的影響,探討了不同的后期熱處理條件與薄膜取向度的關(guān)系。在SrTiO3襯底上成功制備出外延生長的、厚度達1.5µm的PLZT薄膜。 |
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上傳人: |
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上傳時間: |
2007-07-13 14:37:15 |
下載次數(shù): |
6991 |
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583496785 2008-11-19 18:10:14 |
sav dasf sdfv v v |
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