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課題組簡介

導師簡介：

  鄧海博士，國家千人特聘專家，復旦大學高分子科學系，聚合物分子工程國家重點實驗室，教授，博士生導師。師從活性自由基聚合和活性陽離子聚合的先驅(qū)者Sawamoto教授，曾在美國Akron大學高分子系、加州伯克利大學化學系深造，關(guān)于立體可控聚合的研究成果收錄在美國的教科書中。此外，鄧教授擁有豐富的產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗，特別是乳液聚合、半導體光刻材料的研發(fā)經(jīng)驗。曾任美國羅門哈斯公司（現(xiàn)為陶氏化學公司）高級研究員、美國英特爾公司材料部門高級主管，東京應用化學公司Fellow。

主要研究領(lǐng)域有：

  主攻下一代半導體制程用的光刻材料，特別是10 nm以下分辨率材料的設(shè)計合成及應用。課題組受到國家及企業(yè)的大力支持，研究經(jīng)費充足，擁有完善的光刻材料的合成，表征及性能測試平臺。目前已經(jīng)攻克了5 nm~ 10 nm高分辨率的聚合物納米材料。

課題組主頁： http://www.polymer.fudan.edu.cn/polymer/research/denghai/ 

課題背景簡介

  半導體制造中最關(guān)鍵的材料是光刻膠，有多高分辨率的光刻膠就能造出多小的器件。過去的50年內(nèi)，半導體產(chǎn)業(yè)一直沿著Moore’s law前行。Intel、臺積電和三星微電子都已進入了7 nm分辨率的EUV光刻工藝，并將很快進行量產(chǎn)。面對半導體芯片領(lǐng)域向更小、更快和更高密度方向發(fā)展的趨勢，下一代 10~5 nm 半導體制程的光刻技術(shù)和材料已成為全球半導體行業(yè)的研發(fā)熱點。

  目前國內(nèi)的半導體工藝研發(fā)也進入了14 nm制程，國內(nèi)只能量產(chǎn)低端的i-線光刻材料（國外30年前的產(chǎn)品），國內(nèi)的高端光刻膠產(chǎn)業(yè)幾乎處于空白狀態(tài)，所有的90 nm~ 14 nm制程用的光刻材料完全依靠日本進口。

  下一代10 nm及以下半導體制造所需的EUVL和DSA光刻材料，目前被美國和日本企業(yè)所壟斷。為了不再受制于人，我國急需研發(fā)探索10納米以下的下一代光刻材料來打破了技術(shù)壁壘，實現(xiàn)彎道超車。目前本組已研發(fā)出世界上最快速自組裝的、5 nm超高分辨率的DSA材料，該成果已發(fā)表在SPIE（美國光電協(xié)會）等國際會議上，受到廣泛好評。為了更好地保護本組知識產(chǎn)權(quán)，目前已申請了若干中國及美國專利，相關(guān)論文正在整理之中。

招聘基本要求

  由于科研工作需要，本課題組招聘博士后研究員1～2名，進行10納米以下的下一代光刻材料的研究，具體要求如下：

1、金屬有機背景，熟悉烯烴聚合、茂金屬催化聚合的博士或有相關(guān)合成研究工作經(jīng)驗的博士（應屆的或者有工作經(jīng)驗的）。

2、具有良好的英文閱讀和寫作能力，能快速查閱外文文獻，已發(fā)表過相關(guān)領(lǐng)域英文論文。

3、需要具有一定的指導學生的能力。將會帶領(lǐng)在讀的碩士、博士生進行項目攻關(guān)，身體力行地帶領(lǐng)團隊研發(fā)出新型的高分辨率DSA或含金屬EUV光刻材料。

4. 性格開朗，有個人魅力。最好是體育愛好者。

職業(yè)規(guī)劃方向

  本課題組與國內(nèi)外的知名企業(yè)有廣泛的合作，可以為候選人提供未來事業(yè)發(fā)展的支持，可以優(yōu)先推薦給陶氏化學、上海新陽半導體、中芯國際等公司。

個人待遇

  課題組為入選者提供優(yōu)越的科研條件和穩(wěn)定的支持，按照復旦大學有關(guān)博士后的規(guī)定提供相應個人待遇，課題組根據(jù)研究進展和貢獻給予補貼，年薪18萬起。住房：復旦大學根據(jù)申請者要求，提供學校附近一室或二室住房，租金約為市場價格一半。

應聘申請材料

  請應聘者將申請材料（簡歷和代表論文全文）發(fā)至haideng@fudan.edu.cn。

招聘時間

  申請時間為2018年9~11月。