神經(jīng)形態(tài)計算采用模擬、數(shù)字、數(shù)模混合超大規(guī)模集成電路以及軟件系統(tǒng)搭建神經(jīng)系統(tǒng)模型,模仿人類神經(jīng)系統(tǒng)的傳感和信息處理方式,為開發(fā)高效能人工智能系統(tǒng)提供重要技術(shù)支持。神經(jīng)形態(tài)器件能夠模擬神經(jīng)元和神經(jīng)突觸功能,是神經(jīng)形態(tài)計算系統(tǒng)的核心硬件之一。目前,以憶阻器為代表的神經(jīng)形態(tài)器件已在常溫下實現(xiàn)在超低功耗的并行計算和多種類型的人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)中的應(yīng)用,然而其在極端溫度環(huán)境下的工作性能和可靠性仍面臨挑戰(zhàn),這極大限制了人工智能系統(tǒng)在工業(yè)制造、能源勘探、航空航天等領(lǐng)域的應(yīng)用。
圖1 具有超寬工作溫度的有機聚合物人工突觸器件結(jié)構(gòu)與器件內(nèi)部離子遷移工作機制示意圖
圖2 有機聚合物人工突觸的基本突觸功能模擬示意圖
接下來,為了揭示器件開關(guān)行為的原因,首先利用XPS深度剖面技術(shù)探究器件電導(dǎo)率隨外加電壓變化的內(nèi)在機理,直觀分析各層材料的變化。未施加電壓的初始狀態(tài)器件發(fā)現(xiàn)Al電極的頂部和底部界面均能檢測到明顯的Al3+和O2-信號,這表明由于空氣和MDMO-PPV有機物誘導(dǎo)氧化導(dǎo)致了AlOx的富集。施加+8 V電壓后,可實現(xiàn)憶阻器的低電阻狀態(tài)。從LRS憶阻器獲得的元素剖面圖可知,在Al電極/MDMO-PPV界面附近,Al3+的分布略有加深,整個MDMO-PPV層的O2-濃度明顯升高。與Al3+(高價離子)的遷移相比,O2-離子更容易遷移。此外,發(fā)現(xiàn)[In]+離子向相反方向遷移,即從ITO電極遷移到Al電極。氧和銦的遷移都可以增加MDMO-PPV層中的離子組分濃度,從而形成LRS憶阻器。如果施加-8 V的反向電壓,MDMO-PPV層中產(chǎn)生的電場將逆轉(zhuǎn)離子遷移,同時,觀察到MDMO-PPV薄膜的電導(dǎo)率在-8 V電壓條件下會顯著下降,導(dǎo)致憶阻器形成高阻狀態(tài)(HRS)。
圖3 有機聚合物人工突觸的離子遷移工作機制示意圖
圖4 有機聚合物人工突觸的超寬工作溫度示意圖
原文鏈接:https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/adma.202209728
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