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一種新型反應(yīng)室的分析與實驗  
一種新型反應(yīng)室的分析與實驗
資料類型： PDF文件
關(guān)鍵詞： 粉體表面刻蝕  硅粉提純  振動陰極  
資料大?。?/td> 259K
所屬學科： 分子表征
來源： 2007年第六屆中國功能材料及其應(yīng)用學術(shù)會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)
簡介：
對振動陰極上粉體的運動分析表明粉粒在陰極表面停留的時間與陰極表面傾斜角、氣體反吹速度和粉粒大小等有關(guān)，其停留時間可達10min以上。用這種等離子反應(yīng)室對硅粉刻蝕，可在硅粉流經(jīng)反應(yīng)室一次即可刻蝕200nm的表面厚度。這意味著純化硅粉的任務(wù)能一次完成。實驗結(jié)果表明新反應(yīng)室比常規(guī)反應(yīng)室具有很大的優(yōu)點。
作者： 尹盛，王敬義，趙亮，趙伯芳
上傳時間： 2008-05-16 15:14:28
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