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10T 平行強磁場下Ni-納米Al2O3 復合共沉積的研究  
10T 平行強磁場下Ni-納米Al2O3 復合共沉積的研究
資料類型： PDF文件
關鍵詞： 強磁場  復合共沉積  鎳-納米氧化鋁鍍層  微渦流  
資料大?。?/td> 1050K
所屬學科： 分子表征
來源： 2007年第六屆中國功能材料及其應用學術會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)
簡介：
將Ni-納米Al2O3復合電鍍過程移置于10T平行強磁場(B//J)中，探討了有無平行強磁場條件下電流密度對鍍層形貌及鍍層中納米顆粒含量的影響規(guī)律。結(jié)果表明，在10T平行強磁場下，氧化鋁顆粒在復合鍍層中呈網(wǎng)格狀分布，并且網(wǎng)格的尺寸隨著電流密度的增加而增加；電流密度顯著影響鍍層中納米氧化鋁的含量，不論是否施加磁場，當電流密度為2Adm-2時鍍層中顆粒含量最高。施加強磁場時，可使鍍層在低電流密度下獲得較高的納米顆粒含量。
作者： 汪超，鐘云波，賈晶，任忠鳴，任維麗，鄧康
上傳時間： 2008-06-10 13:17:45
下載次數(shù)： 53
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