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電解液中Ce3+/ Ce4+含量對ZAlSi12Cu2Mg1 微弧氧化膜特性和表面形貌的影響  
電解液中Ce3+/ Ce4+含量對ZAlSi12Cu2Mg1 微弧氧化膜特性和表面形貌的影響
資料類型： PDF文件
關(guān)鍵詞： 鑄造鋁合金  微弧氧化  陶瓷層  Ce3+  Ce4+  
資料大?。?/td> 383K
所屬學(xué)科： 分子表征
來源： 2007年第六屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)
簡介：
用微弧氧化方法在鑄造鋁合金表面獲得性能優(yōu)良的陶瓷層對于提高其表面耐熱、耐蝕及耐磨性，擴大其應(yīng)用范圍將具有重要意義。在微弧氧化過程中，通過控制電解液組成可以改善膜層性能。稀土金屬離子化學(xué)性質(zhì)活潑而且有助于普通陶瓷的燒結(jié)。研究了ZAlSi12Cu2Mg1合金在Na2SiO3電解液體系中微弧氧化時，Ce3+/Ce4+的引入對微弧氧化陶瓷層性能的影響，測定陶瓷層的厚度、硬度，用X射線衍射儀(XRD)分析其相組成，掃描電鏡(SEM)觀察其表面形貌，并初步探討了Ce3+/Ce4+對陶瓷層形成機理的影響。結(jié)果表明：Ce3+在0.1～0.7g/L變化時，對陶瓷層的厚度和硬度影響較小，分別為165～193μm和449～935HV。Ce4+在0.1～0.7g/L變化時，陶瓷層的厚度和硬度分別為126～148μm和463～1022HV。XRD分析結(jié)果顯示，陶瓷層主要由α-Al2O3、γ-Al2O3、Al2SiO5和非晶相組成，加入Ce3+后，陶瓷層中Al2SiO5衍射強度明顯降低。
作者： 張靜，劉向東，劉曉麗，張雅萍，呂凱，烏迪
上傳時間： 2008-05-16 15:39:39
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