中國人民大學(xué)賀泳霖等 AFM:耐磨且濕度不敏感的圖案化離子電路制備技術(shù)
2024-10-11 來源:高分子科技
隨著人機(jī)交互界面技術(shù)的發(fā)展,人們對離子電路的需求不斷增加。離子電路的圖案化技術(shù)在功能集成和微型化方面非常重要,它可以控制電路結(jié)構(gòu)和布局,促進(jìn)各種模塊的協(xié)作和復(fù)雜應(yīng)用的開發(fā),在提高性能的同時(shí)減少了電路間的干擾和損耗。然而,傳統(tǒng)的表面改性電路在實(shí)際使用中需要頻繁地與物體直接接觸,這可能會(huì)導(dǎo)致磨損而脫落,或是電路斷裂而失效。因此,開發(fā)一種具有優(yōu)異耐磨性和穩(wěn)定性的離子電路圖案化方法變得尤為重要。
Figure 4:基于DIIW方法制備的穩(wěn)定且耐磨的離子網(wǎng)絡(luò),以及與AI模型結(jié)合實(shí)現(xiàn)多信號(hào)識(shí)別的示意圖及效果圖。
原文鏈接:https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/adfm.202413434
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